​半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各类电子器件、微电子工业、集成电路需用的高纯水(含盐量在0.3mg/L以下,电导率小于0.2μs/cm的水)、超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机物等 简直全部往除的水)清洗半制品、制品。集成电路的集成度越高，对水质的请求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技巧分为五个行业尺度，分辨为 18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm...

​采用离子交换树脂(用化学法将高分子共聚物制成的无机单体颗粒的离子交换剂)(普通也称离子交换树脂(用化学法将高分子共聚物制成的无机单体颗粒的离子交 换剂))(用化学法将高分子共聚物制成的无机单体颗粒的离子交换剂)(又称离子交换剂)制备超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机物等简直全部往除的水) 的传统水处理(经由过程物化方法往除水中一些物质的过程)方法

​电子工业超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机物等全部去除的水)处理(经由过程物化方法往除水中一些物质的过程)设备 采用两级反渗透主机加EDI纯水系统(电阻率请求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超纯水)(电往离子(又称填充床电渗析EDI纯水系统(电阻率请求 在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超纯水)/CDI纯水设备(实用于制备电阻率请求很高的纯水系统))(Electrodeionizatio...

​随着现代工业科技的发展，对于环保的要求也随之越来越高。传统的去离子水高纯水装置均采用混合离子交换混床来做。由于其使用一段时间之后需用到盐酸及氢氧化钠做再生对环境造成一定的影响，排污能力也给企业造成很大的成本。

​EDI相对与混床具有如下的优势：无需再生化学品的再生；不需要中和池及中和的酸碱；地面和高空作业能够极大地减少；所有的水处理系统操作都能够在控制室内完成 – 无需前往现场；减小了风险；连续工作，不是间歇操作，长时间稳定的出水水质；没有废弃树脂污染排放的风险。

​被交换的离子受电性吸引作用，阳离子穿过阳离子交换膜向阴极迁移，阴离子穿过阴离子交换膜向阳极迁移，并进入浓水室从而从淡水中去除。