工业纯水设备是用于工业生产用水的纯水制取装置。工业纯水设备可以用于：饮用水、瓶装水、食品工业用水、半导体工业、精细化工、光学工业用水、电镀用水、医药用水、透析医疗用水、电解器生产用水、电容器生产用水、打印机墨水用去离子水等代替各类蒸馏水及超纯水供水等。

 水在电子工业尤其是电子元器件生产中的重要作用日益突出，纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品合格率及生产成本的重要因素之一，水质要求也越来越高。在电子元器件生产中，高纯水主要用作清洗用水及用来配制各种溶液、浆料，不同的电子元器件生产中纯水的用途不同，因此对水质的要求也不同。

工业纯水设备的工艺：

预处理系统-反渗透系统-中间水箱-混合床-纯水箱-用水对象 (≥15MΩ.CM)

电镀纯水设备：预处理-一级反渗透-中间水箱-加药机(PH调节-二级反渗透-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精密过滤器-EDI装置-超纯水箱-用水对象(≥15MΩ.CM)

化工纯水设备：原水泵-砂滤器-碳滤器-阳离子交换器-阴离子交换器(常见老工艺)

医用纯化水设备：预处理-一级反渗透)-中间水箱-加药机(PH调节-二级反渗透-无菌水箱(加臭氧)-纯水泵-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(全不锈钢制作)

在电解电容器生产中，铝箔及工作件的清洗需用纯水，如水中含有氯离子，电容器就会漏电。在电子管生产中，电子管阴极涂敷碳酸盐，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，因此其配液要使用纯水。在显像管和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成，其配制需用纯水，如纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃;含有机物胶体、微粒、细菌等，就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力，并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水，每生产一个显像管需用纯水80kg。液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液，如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量，导致废、次品。与传统的水处理技术相比，膜技术具有工艺简单、操作方便、易于自动控制、能耗小、无污染、去除杂质效率高、运行成本低等优点，特别是几种膜技术的配合使用，再辅之以其他水处理工艺，如石英砂过滤、活性炭吸附、脱气、离子交换、UV杀菌等，为去除水中的各种杂质，满足日益发展的电子工业对高纯水的需要，提供了有效而可靠的手段，而且也只有应用了多种膜技术，才能生产出合格、稳定的高纯水，才能生产出大规模、超大规模、甚大规模集成电路(LSI、VLSI、ULSI)，从而使计算机、雷达、通讯、自动控制等现代电子工业的发展和应用得以实现。值得一提的是：当原水的含盐量大于400mg/L时，纯水制造的除盐工序采用RO-离子交换工艺后，比早先单用离子交换可节约酸、碱约90%左右，使离子交换柱的周期产水量提高10倍左右，事实证明，可以降低纯水制造的运行费用和制水成本，可以减少工人的劳动强度，可以减少对环境的污染，并可使纯水水质得到提高并长期稳定。据统计，在我国电子工业引进的纯水制造系统中，有RO的约占系统总数的90%，有UF的约占20%，有MF的几乎为100%，而ED在我国国产的纯水系统特别是早期投产的纯水系统，以及为数众多的对纯水水质要求不高的一般电子元器件(如电阻、电容、黑白显像管、电子管等)制造厂的纯水系统中占有相当的比例。

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